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安捷伦 ICP-OES 附件 SPS 4 四样品架自动进样器
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iCAP™ PRO ICP-OES 和 iCAP™ PRO X ICP-OES
这款紧凑的台式 ICP-OES 可同时分析样品中的所有痕量元素。其垂直炬管定向系统提供出色的耐用性,可为径向观测和双向观测仪器提供耐腐蚀内炬盒。吹扫中阶梯光栅多色仪和电荷注入设备 (CID) 阵列
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安捷伦 ICP-MS 高基质进样系统 (HMI) 附件HMI
安捷伦高基质进样 (HMI) 技术作为 7800 ICP-MS 的标配提供,其采用创新的、由计算机控制且可重现的气溶胶稀释方法,可减少等离子体中气溶胶的载入量。因此,等离子体耐受的总
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Agilent 5110 ICP-OES
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Agilent 5800 ICP-OES
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赛默飞iCAP™ PRO ICP-OES 和 iCAP™ PRO X ICP-OES
ICP-OES 可同时分析样品中的所有痕量元素。其垂直炬管定向系统提供出色的耐用性,可为径向观测和双向观测仪器提供耐腐蚀内炬盒。吹扫中阶梯光栅多色仪和电荷注入设备 (CID) 阵列检测器可实现高光通量
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赛默飞iCAP™ PRO ICP-OES 和 iCAP™ PRO X ICP-OES
technology far superior to that of single-element AAS.这款紧凑的台式 ICP-OES 可同时分析样品中的所有痕量元素。其垂直炬管定向系统提供
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赛默飞iCAP™ PRO ICP-OES 和 iCAP™ PRO X ICP-OES
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赛默飞iCAP™ PRO ICP-OES 和 iCAP™ PRO X ICP-OES
ICP-OES 可同时分析样品中的所有痕量元素。其垂直炬管定向系统提供出色的耐用性,可为径向观测和双向观测仪器提供耐腐蚀内炬盒。吹扫中阶梯光栅多色仪和电荷注入设备 (CID) 阵列检测器可实现高光通量
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安捷伦 ICP-MS 超高基质进样系统 (UHMI)气溶胶稀释
安捷伦超高基质进样 (UHMI) 技术采用创新的、计算机控制的、经校准的可重现气溶胶稀释方法,增强了安捷伦 ICP-MS 系统的基质耐受能力,可耐受百分含量水平的溶解态固体,大大超
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